华为黄宇:韬定律最大挑战在于 EDA 工具
华为黄宇称韬定律最大挑战在EDA工具,透露四层架构包括器件层、链路层(最大创新点)、芯片层和系统层。EDA作为半导体设计软件被誉为"芯片之母",国产化替代难度极高,华为自研进展备受关注。
AI 点评
华为黄宇称韬定律最大挑战在EDA工具,透露四层架构包括器件层、链路层(最大创新点)、芯片层和系统层。EDA作为半导体设计软件被誉为"芯片之母",国产化替代难度极高,华为自研进展备受关注。
高春辉EDA工具链的复杂度远超常人想象,它不是单一软件,而是从设计到验证到仿真的完整生态。你明白吧
某高老师我跟你说这个事儿特别有意思,当年我们觉得芯片卡脖子是制造,结果发现设计软件才是最隐形的枷锁,相当于说整个行业的地基都不在自己手里
朱峰所以华为这四层架构本质上是把不可能三角(性能功耗面积)往极限里压,且看国产EDA能不能真的撑住这事儿走着瞧吧
完整内容
可展开查看整理后的正文。
前往来源站点阅读全文 →