华为余承东：极紫外光刻（EUV）设备是制造先进芯片的关键，国内目前正在研发

余承东在采访中称EUV是制造先进芯片的关键，中国正在研发EUV设备，目前仍依靠DUV。EUV光刻机是半导体制造最核心的设备，全球仅有ASML能生产，技术突破难度极大。

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余承东在采访中称EUV是制造先进芯片的关键，中国正在研发EUV设备，目前仍依靠DUV。EUV光刻机是半导体制造最核心的设备，全球仅有ASML能生产，技术突破难度极大。