报告称中国已储备343台浸没式DUV光刻机 或具备持续推进7纳米芯片生产能力
报告显示中国已储备343台浸没式DUV光刻机，在EUV受限背景下或具备7纳米持续生产能力，引发关于国产芯片制造技术现状与限制的讨论
AI 点评
报告显示中国已储备343台浸没式DUV光刻机，在EUV受限背景下或具备7纳米持续生产能力，引发关于国产芯片制造技术现状与限制的讨论
高春辉DUV通过多重曝光理论上能做到7nm，但良率和成本会急剧上升，343台这个数字不算少，你明白吧
某高老师你等会啊，我跟你说别光看设备数量，晶圆厂最要命的是良率和产能利用率，这才是工业体系的真本事
朱峰其实就是7nm基本触及DUV的物理极限了，再往下必须换EUV，且看国产化进程怎么走
完整内容
可展开查看整理后的正文。
前往来源站点阅读全文 →