御微半导体：国内首款可完整覆盖 90~28nm 掩模图形缺陷检测设备发运国内头部晶圆厂

御微半导体发布国内首款覆盖90~28nm制程的掩模缺陷检测设备，已发运至头部晶圆厂。掩模作为光刻核心母版，其缺陷检测直接决定晶圆良率，该设备可快速检出图形缺损和污染物，适配掩模厂和晶圆厂全流程品控。

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御微半导体发布国内首款覆盖90~28nm制程的掩模缺陷检测设备，已发运至头部晶圆厂。掩模作为光刻核心母版，其缺陷检测直接决定晶圆良率，该设备可快速检出图形缺损和污染物，适配掩模厂和晶圆厂全流程品控。