业内分析称中国国产DUV光刻机短时间内尚无法对ASML造成威胁

中国国产DUV光刻机取得进展，但与ASML技术差距仍大。业内分析认为短期内无法对ASML构成威胁，国产化替代仍面临光源、镜头、精度等核心技术挑战。

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中国国产DUV光刻机取得进展，但与ASML技术差距仍大。业内分析认为短期内无法对ASML构成威胁，国产化替代仍面临光源、镜头、精度等核心技术挑战。